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如何巧妙的避免微型光譜儀誤差呢？從幾個方面進行分析
微型光譜儀主要適用于科研院所、高等院校物理和化學(xué)實驗室、生物及醫(yī)學(xué)領(lǐng)域等光學(xué)方面，研究物質(zhì)成分的判定與確認(rèn)；還可以應(yīng)用于刑偵及珠寶行業(yè)進行的檢測及寶石的鑒定。以其結(jié)構(gòu)簡單、操作簡便、測量快速，以低波數(shù)測量能力著稱；采用共焦光路設(shè)計以獲得更高分辨率，可對樣品表面進行um級的微區(qū)檢測，也可用此進行顯微影像測量。
如何巧妙的避免微型光譜儀誤差呢？雖然準(zhǔn)確性高，但由于很多因素的影響導(dǎo)致存在一定的誤差，下面請聽小編從以下幾個方面進行分析。
一、系統(tǒng)誤差的來源
1.標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不*相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。
2.標(biāo)樣和試樣的物理性能不*相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
3.澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時，測出的數(shù)據(jù)會有所差別。
4.未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
5.要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對結(jié)果。
二、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導(dǎo)致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：
1.熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
2.試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
3.磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
4.要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復(fù)多次分析來降低分析誤差。
三、其他因素誤差
1.氬氣不純。當(dāng)氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結(jié)果會變差。
2. 微型光譜儀室內(nèi)溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導(dǎo)致高壓元件發(fā)生漏電、放電現(xiàn)象，使分析結(jié)果不穩(wěn)定。
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